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Ultra-Flat 4" Silizium Wafer

Ultra-Flat 4" Silizium Wafer
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  • 21610-4
Ultraflacher 4 "-Siliziumwafer für anspruchsvolle Substratstudien. Kann auch als Substrat für... mehr
Produktinformationen "Ultra-Flat 4" Silizium Wafer"

Ultraflacher 4 "-Siliziumwafer für anspruchsvolle Substratstudien. Kann auch als Substrat für AFM- oder SEM-Proben verwendet werden, indem der Wafer mit einem Scriber und der Glasbrechzange in kleinere Stücke geschnitten wird. Der 4" Ultraflach-Siliziumwafer wird in einem 4" Waferträger geliefert. 

Eigenschaften für 4" (100 mm) Ultraflachwafer:

  • Orientierung: <100>
  • Typ / Dotierstoff: P / Bor
  • Note: Prime / CZ Virgin
  • Spezifischer Widerstand: 10 - 20 Ohm-cm
  • Dicke: 525 µm +/- 20 µm
  • TTV: <4,00 µm
  • SFPD: <2,0 µm
  • Kette: ≤ 30 µm
  • Bogen: ≤ 20 µm
  • Partikel: ≤ 20 @ ≥ 0,3 µm
  • Vorderseite: poliert
  • Rückseite: Geätzt
  • Flat: 2 pro SEMI-Standard
  • Rauheit: Typischerweise 2-3 Å
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