Siliziumnitrid beschichtete Scheibe Ø 3mm

Diese Ø 3 mm Silizium-Scheibe trägt beidseitig eine ultra-flache, ultra-low-stress 50 nm Siliziumnitrid-Beschichtung. Die Oberfläche ist sauber und frei von Bruchstücken und die Ränder haben keine gebrochenen Kanten. Sie können unter anderem für REM- und FESEM Untersuchungen verwendet werden, aber auch als Substrat für AFM.

Diese Siliziumnitrid beschichtete Scheibe ist auch hydrophilisiert oder hydrophobisiert erhältlich. Die Beschichtung bei der hydrophilisierten Version besteht aus 5 nm Atomic Layer Deposited (ALD) hydroxiliertem Aluminumoxid und bei der hydrophobisierten Version ist es 5 nm ALD Aluminiumoxid und Fluor-Methyl-Silan.

• Schichtdicke: beidseitig 50 nm ultra-spannungsarmes Siliziumnitrid
• Scheibendurchmesser: 3 mm
• Oberflächenrauheit: Der RMS (Rq) beträgt 0,65 nm +/- 0,06 nm, was eine mittlere Rauheit (Ra) von 0,45 nm +/- 0,02 nm ergibt