Die CD - Kalibrierstrukturen ( Critical Dimension ) sind neben allgemeinen Anwendungen von speziellem Interesse für Mikroskopanwender und Prüfingenieure, die mit Hochleistungs - REM oder Atomkraftmikroskopen Messungen von kritischen Distanzen durchführen ( zum Beispiel in der Halbleiter - Industrie ). Der 4,8 mm x 4,5 mm große Standard aus Silizium zeigt ein Schachbrett - Muster mit einer Seitenlänge von jeweils 480 µm. Dieses kann verwendet werden, um die Bildparameter zu optimieren und Verzerrungen zu kontrollieren. Auf dem Standard befindet sich zentral eine Serie von Mustern mit jeweils 5 Linien ( Tiefe ca. 150 nm ), jedes Muster gekennzeichnet mit seinem „pitch“ ( Periodizität ): 10 µm, 5 µm, 2 µm, 1 µm und 0,5 µm. Jeder Standard ist mit seiner eigenen individuellen Seriennummer versehen. Dieser Standard ist auch durch die PTB zertifiziert erhältlich. Gemessen werden jeweils die „pitch“ - Maße: Die jeweils mittlere Linie eines Musters ( „rechte Schulter“ ) bis zur nächsten „rechten Schulter“ der folgenden Linie.
Planotec - Kalibrierstruktur 500 nm / 200 nm / 100 nm
Diese Planotec - Kalibrierstruktur hat einen der CD - Kalibrierstruktur entsprechenden Aufbau. Im Zentrum des leicht zu identifizierenden Zielkreuzes befinden sich Gruppen von je 5 erhabenen Linien mit einem „pitch“ - Maß ( Periodizität ) von 500 nm / 200 nm / 100 nm. Bei der 100 nm - Struktur kann es vorkommen, dass eine der 5 Linien nicht geschrieben wurde. Dies ist aber leicht erkennbar und macht das Testobjekt deswegen nicht unbrauchbar. Die Höhe der Linien beträgt ca. 45 - 50 nm. Dieses Testobjekt ist leider nicht mehr PTB - zertifiziert erhältlich.
Die CD - Kalibrierstrukturen ( Critical Dimension ) sind neben allgemeinen Anwendungen von speziellem Interesse für Mikroskopanwender und Prüfingenieure, die mit Hochleistungs - REM oder...
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Die CD - Kalibrierstrukturen ( Critical Dimension ) sind neben allgemeinen Anwendungen von speziellem Interesse für Mikroskopanwender und Prüfingenieure, die mit Hochleistungs - REM oder Atomkraftmikroskopen Messungen von kritischen Distanzen durchführen ( zum Beispiel in der Halbleiter - Industrie ). Der 4,8 mm x 4,5 mm große Standard aus Silizium zeigt ein Schachbrett - Muster mit einer Seitenlänge von jeweils 480 µm. Dieses kann verwendet werden, um die Bildparameter zu optimieren und Verzerrungen zu kontrollieren. Auf dem Standard befindet sich zentral eine Serie von Mustern mit jeweils 5 Linien ( Tiefe ca. 150 nm ), jedes Muster gekennzeichnet mit seinem „pitch“ ( Periodizität ): 10 µm, 5 µm, 2 µm, 1 µm und 0,5 µm. Jeder Standard ist mit seiner eigenen individuellen Seriennummer versehen. Dieser Standard ist auch durch die PTB zertifiziert erhältlich. Gemessen werden jeweils die „pitch“ - Maße: Die jeweils mittlere Linie eines Musters ( „rechte Schulter“ ) bis zur nächsten „rechten Schulter“ der folgenden Linie.
Planotec - Kalibrierstruktur 500 nm / 200 nm / 100 nm
Diese Planotec - Kalibrierstruktur hat einen der CD - Kalibrierstruktur entsprechenden Aufbau. Im Zentrum des leicht zu identifizierenden Zielkreuzes befinden sich Gruppen von je 5 erhabenen Linien mit einem „pitch“ - Maß ( Periodizität ) von 500 nm / 200 nm / 100 nm. Bei der 100 nm - Struktur kann es vorkommen, dass eine der 5 Linien nicht geschrieben wurde. Dies ist aber leicht erkennbar und macht das Testobjekt deswegen nicht unbrauchbar. Die Höhe der Linien beträgt ca. 45 - 50 nm. Dieses Testobjekt ist leider nicht mehr PTB - zertifiziert erhältlich.
PLANOTEC Kalibrierstrukturen 500 nm - 200 nm - 100 nm (nicht zertifiziert) S1998 
CD Kalibrierstrukturen (CRITICAL DIMENSION) 10-5-2-1-0,5 µm 1 Stück kein S1995A