Siliziumnitrid Membran mit 200 µm Substratdicke

Siliziumnitrid Si3N4 Trägermembranen eignen sich, wenn Kohlenstoff- oder Kunststofffolien nicht geeignet sind. Diese Siliziumnitridmembranen sind extrem flach und glatt, wodurch die Notwendigkeit einer häufigen Nachfokussierung beim Scannen über große Bereiche erheblich verringert wird. Die Membranen weisen eine hohe Stabilität unter dem Elektronenstrahl auf und sind, abgesehen von verdünntem HF, heißem H2SO4 und freiem Fluor, gegen die meisten Chemikalien resistent, da sie chemisch relativ inert sind. Die mechanische Stabilität der Membran ermöglicht die Verwendung einer Reihe von Mikroskopietechniken wie TEM, SEM und AFM für eine Vielzahl von nanotechnologischen Experimenten. Zellen, Fasern und Partikel etc. können direkt auf die Trägermembran aufgebracht und untersucht werden.

Sie sind mit verschiedenen Fenstergrößen auf einem Siliziumträgerrahmen erhältlich, der für einen Standard-TEM-Halter von 3 mm ausgelegt ist, und in einer Reihe von Membrandicken von 10 nm bis 500 nm. Die Siliziumnitridmembranen werden unter Reinraumbedingungen hergestellt und vor dem Verpacken chemisch gereinigt. Lieferung als 10 Trägermembranen in einer Netzchenschachtel.