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Pelco Hydrophobisierte Siliziumnitrid Membran
- Artikel-Nr.: 21552-10
Siliziumnitridmembranen wurden unter Verwendung von Atomic Layer Deposited (ALD) -Techniken... mehr
Produktinformationen "Pelco Hydrophobisierte Siliziumnitrid Membran"
Siliziumnitridmembranen wurden unter Verwendung von Atomic Layer Deposited (ALD) -Techniken modifiziert, um ihre Oberflächeneigenschaften zu ändern. Abhängig vom verwendeten Verfahren wurden sowohl hydrophile als auch hydrophobe Substrate mit den folgenden Vorteilen erzeugt:
- Wahl zwischen niedrigen und hohen Oberflächenenergien
- Glatte und konforme Untergründe
- Verbesserte Benetzung und Biokompatibilität (hydrophil)
- Keine Plasmabehandlung der Oberfläche vor dem Zellwachstum erforderlich
- Die hydrophobe Beschichtung bietet eine neuartige Plattform für die Abscheidung und das Wachstum von Nanomaterialien
- Hydrophobe Oberflächen verbessern die Probenvorbereitung für Materialien, die in organischen Lösungsmitteln gelöst oder suspendiert sind. Nanopartikel in organischen Lösungsmitteln (wie Kohlenstoffnanoröhren) dispergieren leicht auf der Siliziumnitridmembranoberfläche.
- Hydrophile Oberflächen verbessern die Benetzung und Dispersion wässriger Lösungen. Dies vermeidet Partikelaggregationseffekte, die üblicherweise auf weniger hydrophilen Oberflächen beobachtet werden. Besonders nützlich in wasserbasierten Solen und Life-Science-Anwendungen.
- Beide Beschichtungen sind auf 50 nm- und 200 nm-PELCO®-Siliziumnitridmembranen mit einem Fenster von 0,5 mm x 0,5 mm und einer 15 nm-Si3N4-Membran mit 9 Fenstern von jeweils 0,1 nm x 0,1 nm auf einem 200 µm-Siliziumrahmen mit einem Durchmesser von 3 mm erhältlich und mit allen Standard-TEM-Netzchenhaltern kompatibel . Beide Seiten der Membran und des Rahmens sind beschichtet. Wir empfehlen, die Scheiben am Rand zu fassen.
Spezifikation:
- Hydrophil: 2,5 nm Atomlagen-abgeschiedenes hydroxyliertes Aluminiumoxid auf 15 nm, 50 nm und 200 nm Siliziumnitridmembran mit extrem geringer Spannung
- Hydrophob: 2,5 nm Atomlagen-abgeschiedenes Aluminiumoxid und Fluor-Methyl-Silan auf 15 nm, 50 nm und 200 nm Siliziumnitridmembran mit extrem geringer Spannung
- Oberflächenenergie:
Surface | Surface Energy (mJ/m2) | Standard Deviation |
Silicon Nitride Membrane | 46.1 | 4.3 |
Hydrophilic Coating | 76.1 | 2.2 |
Hydrophobic Coating | 24.6 | 4.4 |
mj= millijoules |
- Oberflächenrauheit:
Surface | Surface Roughness (nm) | Standard Deviation |
Silicon Nitride Membrane | Rq=0.65 Ra=0.45 | 0.06 0.02 |
Hydrophilic Coating | Rq=0.57 Ra=0.40 | 0.04 0.03 |
Hydrophobic Coating | Rq=0.66 Ra=0.40 | 0.03 0.05 |
Rq= Surface Roughness; Ra= Roughness Average |
- Filmdicke: Elastisch, geringe Beanspruchung bei 15, 50 und 200 nm, was zu einer minimalen Absorption führt, um eine klare Bildgebung zu ermöglichen
- Fenstergrößen: Array von 9 Stück 0,1 x 0,1 mm und 0,5 x 0,5 mm
- Rahmendicke: Die Silizium-Trägerstruktur entspricht dem 200-µm-Standard.
- Rahmendurchmesser: EM-Standardscheibe mit 3 mm Durchmesser, voll kompatibel mit Standard-TEM-Haltern (keine gebrochenen Kanten) EasyGrip Kanten für die einfache Handhabung mit einer Pinzette
- Verpackung: Die PELCO® Siliziumnitrid-Trägerfolien werden unter Reinraumbedingungen in der PELCO® # 160 TEM Grid Aufbewahrungsbox verpackt. Jede Box enthält 10 Trägerfilme
Verfügbare Downloads:
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